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RTP設備總覽與製程

產品說明
鉅安科技公司擁有豐富的半導體設備大廠的研發設計經驗及整合能力，更打造自我品牌「GTC」，專注研發快速升溫退火爐 (RTA、RTP)設備等產品。相對於傳統爐管設備的製程冗長，而RTA設備可大幅減少熱預算與縮短製程時間。目前RTA設備可運用於高溫退火、擴散、熱氧化處理、奈米粒子製程、LED/III-V族半導體合金化－減少歐姆接觸、ITO回熔、多晶矽退火…等。本公司已成功開發出一系列桌上型、量產型2至12吋晶圓RTA設備，如下表所示。


 
Model Wafer Size Purpose Operation Chamber Type Control Method
eRTA 50 2" R&D Manual Cold Wall Desktop SISO
eRTA 50 UV 2"
eRTA 100 4" SIMO
eRTA 50 HT 2" Standalone SISO
RTA 150-MW 6" Mass Production Semi-Auto Cold / WarmWall SIMO
RTA 200-SAVC 8" *1
4" *4
RTA 300-SAVC 12" * 1 ColdWall MIMO
6" * 4
4" * 9
RTA 200-FAVC 8" *1 Fully Auto
6" *1
RTA 300-FAVC 12" * 1
6" * 4
4" * 9
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